Aanwenden van plasma etsprocessen voor het micro/nanotextureren van metalen oppervlakken voor de realisatie van innovatieve chemische, analytische, optische en medische toepassingen

De nieuwe Core Facility MICROLAB installeert unieke machines voor het diep reactief ionenetsen van
SiO2 en materialen zoals SiNx, SiC, GaN, PZT en Al2O3. SiO2-gebaseerde substraten (Borofloat,
quartz, ...) zijn essentieel voor een breed gamma aan optische, sensor gerelateerde en diagnostische
toepassingen vanwege de chemisch stabiliteit, optische transparantie, diëlektrische eigenschappen,
elektrofiele aard en compatibiliteit met heel wat coatings. Echter, om SiO2 te etsen, zijn metalen
maskers – in plaats van de conventionele fotoresist maskers – nodig om voldoende selectiviteit te
creëren. Bovendien moeten ze gefabriceerd worden met een heel accuraat 3D-profiel, om zo het
etsen van SiO2-structuren met hoge aspect ratio en verticaliteit mogelijk te maken.
De plasma etser voor metalen waarvoor financiering wordt gezocht in het huidig voorstel zal een zeer
geavanceerd toestel zijn dat verder zal bijdragen tot de unieke positie van MICROLAB met betrekking
tot het etsen van SiO2 in Vlaanderen en de rest van de wereld. Met deze machine zullen niet enkel
nieuwe etsprocessen voor metalen kunnen ontwikkeld worden, er zal ook grensverleggend onderzoek
in andere domeinen mogelijk gemaakt worden. De machine zal bijvoorbeeld een unieke bijdrage
kunnen doen aan de ontwikkeling van 3D getextureerde metalen metamaterialen voor innovatieve
optische toepassingen. De machine zal deel uitmaken van MICROLAB, waartoe zowel academische
als industriële onderzoekers toegang zullen krijgen