Aanwenden van hoge aspect ratio etsprocessen voor glas en dielektrische materialen voor de realisatie van innovatieve chemische, analytische, optische en medische toepassingen

Projectdetails

!!Description

SiO2-gebaseerde substraten (Borofloat, quartz, ...) zijn essentieel voor een breed gamma aan o.a. optische, sensorgerelateerde en diagnostische toepassingen vanwege de chemisch stabiliteit, optische transparantie, dielektrische eigenschappen, elektrofiele aard en compatibiliteit met heel wat coatings. Het is vaak wenselijk om het substraat te struktureren om zo een groot oppervlak te genereren voor chemische interacties, of om bvb. specifieke
stroomprofielen te realiseren in de context van verbeterde of innovatieve scheidingsmethodes. Terwijl er zeer krachtige deep reactive ion etching processen beschikbaar zijn voor Si (Bosch proces en cryogeen etsen), was dit tot voor kort niet het geval voor SiO2-gebaseerde of andere dielektrische
materialen. Met het huidige projectvoorstel, wordt het verwerven
van een nieuwe generatie etstoestel beoogd, dat op gelijkaardige anisotrope wijze als voor Si nu ook SiO2 kan etsen, naast andere materialen als bvb. SiNx, SiC, GaN, PZT en Al2O3, waardoor heel wat nieuwe applicaties mogelijk worden.
Deze nieuwe technologie zal uniek zijn in Vlaanderen, met maar een paar dergelijke instrumenten geïnstalleerd wereldwijd. Ook de etsrecepten zelf zullen
verbeterd worden op het vlak van haalbare aspect ratio,
verticaliteit, etssnelheid en 3D-profiel. Het instrument zal deel uitmaken van een microfabricatie-faciliteit op VUB met eenvoudige en transparante toegang voor
onderzoeksinstellingen en industrie.
AcroniemOZR3585
StatusActief
Effectieve start/einddatum1/05/2030/04/24

Flemish discipline codes

  • Other chemical sciences not elsewhere classified

Keywords

  • SiO2