In-situ studie en modellering van de gecontroleerde groei van ultra-dunne organische lagen op metallische oxides.

In dit project zal het adsorptiemechanisme van organische fosfonzuren op aluminiumoxides nader bestudeerd worden. Aluminiumoxide is amfoteer en reageert gemakkelijk met water. Dit leidt tot de productie van een oxide met hydroxyleindgroepen. Het wordt als een oxide beschouwd dat via een zuur-base reactie met organische moleculen zal reageren. Het is een elektrische isolator wat de mogelijkheid biedt om elektrische eigenschappen op te meten met scanning tunnel microscopie (STM) , zonder rekening te houden met de elektronische structuur.

Aluminium en zijn oxides zijn materialen waarop de onderzoeksgroep META internationaal erkend onderzoek verricht. Het is één van de sterkst uitgebouwde onderzoekstopics van de groep.

Als af te zetten verbinding wordt geopteerd voor n-octylfosfonzuur. Van fosfonzuren wordt beweerd dat ze zelfassemblerende monolagen op oxides kunnen vormen. Deze informatie is vooral afkomstig van X-stralen foto-elektronen spectroscopische (XPS) en ellipsometrische metingen. Er kunnen echter bemerkingen gemaakt worden bij deze aanpak. Vaak wordt er a priori uitgegaan van het bestaan van monolagen op deze substraten. Het is echter gebleken dat n-octylfosfonzuur geen monolaag vormt wanneer het substraat uit het depositiemilieu wordt verwijderd. Atomaire krachten microscopie en XPS laten een duidelijk beeld zien van de vorming van een multilaag, gevormd op basis van een Volmer-Weber mechanisme. Veel vragen betreffende het bindingsmechanisme van deze functionaliteiten blijven echter onbeantwoord en openen uitdagende mogelijkheden om fundamenteel onderzoek te verrichten.