Optische karakterisering van materiaaloppervlakken door middel van spectroscopische ellipsometrie van het visueel tot het ver infrarood spectrum.

Dit project heeft tot doel de microscopische oppervlaktekarakteristieken, met name de samenstelling, structuur en morfologie, van gemodificeerde metaaloppervlakken te bepalen langs niet destructieve optische weg. Met behulp van spectroscopische ellipsometrie kunnen de optische eigenschappen van de te bestuderen oppervlakken met grote nauwkeurigheid bepaald worden. Aan de hand van gevorderde dataverwerkingprocedures kunnen de ellipsometrische gegevens vervolgens geïnterpreteerd worden in functie van de oppervlatekarakteristieken. Deze methodologie zal gebruikt worden om zeer dunne filmen met een dikte begrepen tussen ongeveer 1 en 100 nm op metaaloppervlakken te karakteriseren. Dit diktebereik omvat een variëteit aan dunne lagen, zoals natuurlijke oxides, chemische en electrochemische conversielagen alsook ultradunne plymeerlagen. Voor dit type onderzoek zal het volledig beschikbare spectraal bereik van spectroscopische ellipsometrie gebruikt worden. Het gebruik van SE in het infrarood laat de moleculaire karaterisering van de oppervlaktesamenstelling toe. SE van het nabij UV tot het nabij IR met inbegrip van het visuele spectrum is zeer gevoelig aan de aanwezigheid van dune lagen en kan zelfs in situgebruikt worden voor electrochemische studies. De toepassingen van dit onderzoek situeren zich o.a. op het gebied van de electroschemie (vb corrosie), oppervlaktebehandelingen en procescontrole.