Jaarlijks verslag over de vooruitgang van het doctoraatsonderzoek 2004

AC elektrochemisch ruwen is een belangrijke stap tijdens de vervaardiging van aluminium lithografische platen. Ruwing is nodig om de adhesie van de fotogevoelige laag en de waterophoudende eigenschappen van het oppervlak te verbeteren. Onder wisselstroom treedt pitting en oplossing van aluminium op tijdens de anodische halfperiode, terwijl waterstofontwikkeling en stijging van de lokale pH optreden tijdens de kathodische halfperiode. Tengevolge van de pH-stijging wordt een laag van aluminiumhydroxides gevormd, hetgeen zorgt voor een herverdeling van de aanval tijdens de daarop volgende anodische halfperiode. De resulterende oppervlaktemorfologie is functie van de opgelegde elektrische, elektrolyt- en substraatcondities. De bedoeling van dit onderzoek is om een model op te stellen voor het AC elektrochemisch ruwen van aluminium. Met dit model zal het proces worden gesimuleerd en een belangrijke inspanning zal worden geleverd om voorspellingen te de doen over de oppervlaktemorfologie. Enerzijds kan met deze simulaties een beter inzicht worden verkregen in het mechanisme van het AC elektrochemisch ruwen, omdat lokale grootheden, die experimenteel niet of moeilijk toegankelijk zijn, kunnen worden berekend. Anderzijds laten simulaties en een voorspelling van de oppervlaktemorfologie toe om op een goedkopere en snellere manier de procescondities te optimaliseren in industriële toepassingen.